Jede Branche hat ihre eigenen Bedürfnisse, welche anwenderspezifische Lösungen erfordern. Speziell unsere Ionenstrahlquellen können entsprechend der jeweiligen Anforderungen an die Wünsche unserer Kunden angepasst werden. Die daraus entstehenden Herausforderungen eröffnen immer neue Perspektiven in der Dünnschichttechnik.

Einsatzgebiete Ionenstrahlquellen:

Vorreinigung und Aktivierung von Oberflächen Sputterprozesse auch mit reaktiven Gasen Einbringen von Fremdatomen in die Oberfläche (Dotieren) Plasmaunterstützte PVD-Prozesse IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)

Produktbeschreibung Reihe WRS:

Neue Möglichkeiten entdecken heisst “mit Innovation” in die Zukunft. Die Ionenstrahlquelle Typ WRS setzt neue Massstäbe auf dem Gebiet der Oberflächenbearbeitung. Durch das patentierte Prinzip der induktiven RF-Einkopplung von Hochfrequenzenergie in das Plasma ist eine optimale Querschnittsgeometrie zur grossflächigen Ionenstrahlextraktion möglich. Auch dieser Quellentyp überzeugt durch die Kombination aus Langzeit-Prozessstabilität und Wartungsfreiheit. Ferner ist auch das Arbeiten mit reaktiven Gasen möglich. .