* Franz Beckenbauer

Die von IPT eingesetzten und patentierten Methoden der Plasmaerzeugung und Extraktion ermöglicht den Einsatz von Plasmatechnologie in einer Vielzahl von Anwendungen.   Durch unserer Kapazitiv gekoppelten Quellen sind sowohl CVD-Prozesse als auch nur durch plasma unterstützte Prozesse in den gängigen PVD-Verfahren möglich. Der Energiebereich reicht von typisch 30eV bis 800eV.   Durch induktive HF-Einkopplung werden Plasmen mit sehr hohen Ionisationsgraden erzeugt. Hierbei sind beliebige Strahlgeometrien denkbar. Bevorzugt findet diese Art der Plasmanregung in der Ionenstrahltechnik Anwendung. Der Energiebereich liegt hier typisch zwischen 100eV bis 5keV.