Mitte der 90'iger des letzten Jahrhunderts wurde mit der Entwicklung einer neuartigen Quelle zur diamantähnlichen Kohlenstoffabscheidung begonnen. Dank der Innovationskraft unserer Wissenschaftler und Ingenieure ist daraus eine sehr robuste und leistungsstarke Quelle entstanden, die in allen Bereichen der modernen Dünnschichttechnologie einsetzbar ist.

Einsatzgebiete Plasmastrahlquellen:

Erzeugung ultradünner Kohlenstoffschichten (DLC-Schichten) Vorreinigung und Aktivierung von Oberflächen Reaktivgas-Prozesse für optische Anwendungen Deposition von Schichtsystemen aus der Gasphase (PECVD) Plasmaunterstützung für alle gängigen PVD-Verfahren (u.a Sputterprozesse, Arc-Verdampfung, Elektronenstrahlverdampfung)

Produktbeschreibung Reihe PBS:

Die Plasmastrahlquellen Typ PBS bieten Ihnen alles, was Sie von einer modernen Strahlquelle erwarten. Die weiter entwickelten Strahlquellen sind wartungsarm und zeichnen sich durch ihre langen Prozessstandzeiten aus. Die filamentlose Plasmaanregung ermöglicht den Betrieb der Quelle mit Inert- und Reaktivgasen. Das besondere der Plasmastrahlquelle ist die patentierte Methode der Strahlextraktion. Sie erzeugt einen “quasi” neutralen Plasmastrahl. Somit entfällt eine teure Nachneutralisation. Die Energie im Strahl kann über die jeweils eingestellte RF-Leistung geregelt werden. Wenn es um die optimale Einkopplung der RF-Leistung in den Prozess geht, ist ein automatisch tunendes Matching Grundvoraussetzung. Das steckbare Automatching wurde speziell für den Quellentyp PBS entwickelt und abgestimmt. Es besitzt zwei Vakuumkondensatoren und findet den jeweiligen Arbeitspunkt automatisch. Dadurch wird stets die optimale Leistung für ihren Prozess erreicht. .